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北京慧龍環科環境儀器有限公司


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五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

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具體成交價以合同協議為準

產品型號VTC-5RF

品       牌

廠商性質代理商

所  在  地北京市

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更新時間:2024-10-24 09:30:44瀏覽次數:147次

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產品簡介

五靶頭等離子射頻磁控濺射儀更新時間:2020-01-08產品型號:VTC-5RF廠商性質:代理商產品品牌:合肥科晶產品廠地:國外訪問次數:210VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究

詳細介紹

五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

  • 更新時間:2020-01-08
  • 產品型號:VTC-5RF
  • 廠商性質:代理商
  • 產品品牌:合肥科晶
  • 產品廠地:國外
  • 訪問次數:210

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態電解質材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

產品概述:

VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態電解質材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。

主要特點:

  • 多種濺射靶頭及電源可選,自由組合,具體請致電我公司銷售部。 
  • 根據所使用的電源(DC或RF),可以沉積金屬或非金屬材料。 
  • 一個旋轉開關可以依次激活濺射頭,可在真空或等離子體環境中自動切換,不影響真空度。 
  • 可以安裝五種不同材料的靶材,每個靶頭可單獨設置濺射時間功率等參數,用于生長不同成分的薄膜。 
  • 可選購多個射頻電源,同一時間濺射多個靶材。 
  • 可選配設備控制軟件,用電腦控制濺射的所有參數。

濺射腔體:

  • 真空腔體采用304不銹鋼制作 
  • 腔體內部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 
  • 鉸鏈式腔門,直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

濺射頭&樣品臺:

  • 5個1英寸的磁控濺射頭,帶有水冷夾層
  • 濺射腔體內安裝有電動擋板 
  • 濺射距離:濺射距離可調
  • 濺射角度:濺射角度可調 
  • 實驗時,需要將靶材和靶材的銅墊片用導電銀漿粘合粘合,(可在本公司購買導電銀漿) 
  • 可以單獨訂購RF連接線作為備用
  • 設備需要一臺水冷機,用于靶頭冷卻

樣品臺:

  • 直徑為150mm的樣品臺,上面覆蓋一旋轉臺,帶有10mm的孔洞,每次露出一個樣品接收濺射成膜。 
  • 樣品臺尺寸:Φ150mm,可通過程序控制來旋轉,可制作16種不同組分的薄膜 
  • 樣品臺可以加熱,高溫度可達600℃(根據配置不同可能會有變動,具體請咨詢銷售部)

真空系統:

  • 安裝有KF40真空接口 
  • 真空度:4.0e-5Torr(分子泵)(參考值,具體請點擊) 
  • 可在本公司選購各種真空泵

進氣:

  • 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 
  • 設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流

靶材:

  • 所要求靶材尺寸:直徑為25mm,大厚度3mm 
  • 可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀(可選):可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

凈重:60Kg(不包括泵)

質量認證:CE認證

使用提示:

  • 此設備為DIY設備,參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通
  • 為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N) 
  • 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
  • 要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面 
  • 超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。 
  • 等離子清洗(詳細參數點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。 
  • 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。

警告:

  • 注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。 
  • 氣瓶上應安裝減壓閥(設備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
  • 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

 

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