聲光Q開關是利用聲光相互作用以控制光腔損耗的Q開關技術。聲光調Q是通過電聲轉換形成超聲波使調制介質折射率發生周期性變化, 對入射光起衍射作用, 使之發生衍射損耗,Q 值下降, 激光振蕩不能形成。在光泵激勵下其上能級反轉粒子數不斷積累并達到飽和值, 之后突然撤除超聲場, 衍射效應立即消失, 腔內Q 值猛增, 激光振蕩迅速恢復, 其能量以巨脈沖形式輸出。這是一種廣泛應用的Q開關方式，其主要優點是重復頻率高，性能穩定可靠。
調Q技術就是通過某種方法使腔的Q值隨時間按一定程序變化的技術。在泵浦開始時使腔處在低Q值狀態，即提高振蕩閾值，使振蕩不能生成，上能級的反轉粒子數就可以大量積累，當積累到zui大值（飽和值）時，突然使腔的損耗減小，Q值突增，激光振蕩迅速建立起來，在極短的時間內上能級的反轉粒子數被消耗，轉變為腔內的光能量，在腔的輸出端以單一脈沖形式將能量釋放出來，于是就獲得峰值功率很高的巨脈沖激光輸出。
聲光Q開關是利用聲光相互作用以控制光腔損耗的Q開關技術。聲光調Q是通過電聲轉換形成超聲波使調制介質折射率發生周期性變化, 對入射光起衍射作用, 使之發生衍射損耗,Q 值下降, 激光振蕩不能形成。在光泵激勵下其上能級反轉粒子數不斷積累并達到飽和值, 之后突然撤除超聲場, 衍射效應立即消失, 腔內Q 值猛增, 激光振蕩迅速恢復, 其能量以巨脈沖形式輸出。這是一種廣泛應用的Q開關方式，其主要優點是重復頻率高，性能穩定可靠。
典型的聲光Q開關主要由三部分組成：電聲轉換器、聲光介質和吸聲材料。電聲換能器與聲光介質如熔石英、鉬酸鉛（PbMO4）晶體等構成聲光器件。電聲換能器加電后，將超聲波饋入聲光材料，聲波是疏密波，聲光材料的折射率發生周期變化，對相對聲波方向以某一角度傳播的光波來說，相當于一個相位光柵。于是，在超聲場中光波發生衍射，改變傳播方向，這就是聲光衍射效應。
主要技術參數
工作介質：熔融硅 Fused Silica
激光波長：1064nm
增反鍍膜：多層介質硬膜
透過率：>99.8% （典型>99.9%）
膜層損壞閾值：> 1GW cm-2
插入損失： <= 10% （典型< 5%）
VSWR: <= 1.2:1
zui大驅動電功率：100W
過熱保護點：+50 度
水冷要求
水流速：>190cc / min
水溫：
- 建議工作水溫：<32 度但不能結露
- zui高水溫：40 度
